抛光所需的工序分为以下：
（1）粗抛：一般使用普通砂蜡，金刚石抛光液，配合牛胶砂轮，去掉产品表面的粗皮。也可选用精制砂蜡或者黑油棒，效率更快。
（2）中抛：一般要求时，选用通用型紫蜡，力度强，光度较好，经济实惠。较高要求时，选用好紫蜡，力度光度俱佳。也常用
于碗盆类厨具器皿的一次性外抛。高精要求时，选用精制紫蜡E、定制紫蜡D或者蓝紫蜡。精选特种进口原料制成。切削力强，黑亮
高光，纹路细腻，耐磨。多用于碗盆煲壶类的内光或者高要求的外光回抛。可达同类进口蜡品质。超高要求时，选用定制紫蜡C
。精选特种进口原料制成。强力去麻点、砂线，超黑亮光，抛光液价格，纹路细腻，耐磨。多用于碗盆煲壶类厨具器皿的内光或者特高要求的外
光回抛，也可强抛（不用粗磨打砂工序）201、304、316、430等钢板，是同类进口蜡的理想替代品。
（3）细抛：一般由绿色抛光膏或白色抛光膏配合纯棉布轮使用，玻璃抛光液，为抛光的尾道工序，抛后工件呈镜面或高光效果。选用精抛大青
蜡，要求特高时用小青棒。超镜面亮光，黑亮青幽，能使产品表面达到完整的效果。区别为前者带青光，后者带白光。如果要求不
高的，可以使用白色抛光膏即可，因为它的价位通常较低。
氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料GaAs、磷化铟，抛光液，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
Ce02抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的Ce02研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。
氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
绿色抛光膏：由硬脂酸、单甘脂、蜜蜡、石蜡、羊毛脂、适量氧化铬绿和出光较好的Al2O3粉等配合而成。
主要成分是氧化铬绿和Al2O3。适用于任何工件的镜面抛光。
紫色抛光膏：由松香、凡士林、石蜡、棕刚玉微粉或磨削力较强Al2O3粉、氧化铁红等配合而成。
主要成分是棕刚玉微粉或Al2O3粉。适用于任何金属或非金属件的中磨等。
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