氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，铜材抛光液，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，不锈钢抛光液，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料GaAs、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
Ce02抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的Ce02研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器，光学镜头，抛光液，微晶玻璃基板，抛光液生产厂家，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。
氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
抛光液分几大类？
抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、Ce02抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。
多晶金刚石抛光液：以 多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。
市面上常见的抛光液有：硅材料抛光液、蓝宝石抛光液、GaAs抛光液、铌酸锂抛光液、锗抛光液、集成电路多次铜布线抛光液、集成电路阻挡层抛光液、研磨抛光液、电解抛光液、不锈钢电化学抛光液，不锈钢抛光液、石材专用纳米抛光液、氧化铝抛光液、铜化学抛光液、铝合金抛光液、镜面抛光液、铜抛光液、玻璃研磨液、蓝宝石研磨液、酸性抛光液、铝材抛光液、金刚石抛光液、钻石抛光液、单晶体钻石研磨液、抛光膏。
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